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半導體用水設備-北京清洗集成電路用水設備

作者:北京水處理來源:北京軟化水設備發布時間:2011-12-08

半導體用水設備-北京清洗集成電路用水設備

一、簡介
生產半導體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件等電子工業用超純水系統。水質可達18.3兆歐,符合電子行業生產所需超純水水質要求。我公司曾為國外很多知名電子工業廠家制作工業超純水設備。

水質:水質符合美國ASTM標準,電子部超純水水質標準(18MΩ*cm,15MΩ*cm,2MΩ*cm和0.5MΩ*cm四級)
材質:鋼襯膠 不銹鋼 有機玻璃等
流量(m3/h):0.1-500
應用范圍:半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路;超純材料和超純化學試劑;實驗室和中試車間;汽車家電表面拋光處理醫藥行業用水;其他高科技精微產品

二、工藝
1、預處理-反滲透-水箱-陽床-陰床-混合床-純化水箱-純水泵-紫外線殺菌器-精制混床-精密過濾器-用水對象
2、預處理-一級反滲透-加藥機( PH調節)-中間水箱-第二級反滲透-純化水箱-純水泵-紫外線殺菌器-0.2或0.5 μ m精密過濾器-用水對象
3、預處理-反滲透-中間水箱-水泵-EDI裝置-純化水箱-純水泵-紫外線殺菌器-0.2或0.5 μ m精密過濾器-用水對象
4、 預處理-反滲透-中間水箱-水泵-EDI裝置-純化水箱-純水泵-紫外線殺菌器-精制混床-0.2或0.5 μ m精密過濾器-用水對象

三、為滿足用戶需要,達到符合標準的水質,盡可能地減少各級的污染,在工藝設計上,取達國家自來水標準的水為源水,再設有介質過濾器,活性碳過濾器,精密過濾器等預處理系統、RO反滲透主機系統、離子交換混床系統等。
1、介質過濾器主要作用是去除源水中的懸浮物質及機械雜質設備由優質不銹鋼材料制作而成。體內裝有布水帽、精制石英砂等,亦可裝其它填料。合理的石英砂裝填比例及良好的布水系統,使系統的產水水質更加穩定。另外設備還設有氣體沖刷功能,能大限度地清除介質上及床層中的污垢,提高出水水質和延長工作周期。
2、活性碳過濾器具有除臭、去色、除油、吸附有機物雜質等作用,能大程度的去除水中的游離余氯,保證反滲透膜的進水水質,設備由優質不銹鋼材料制成。
3、RO主機系統引進國際上先進的反滲透技術,利用壓力差原理,能有效地去除水中的鹽類,脫鹽率可達到99%左右。
4、混床系統采用離子交換技術,內裝陰、陽樹脂,合理的樹脂層高度能有效地保證出水水質滿足用戶要求。
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EDI裝置的特點:

1.可連續運行,產品水水后移定;

2.容易實現全自動控制;

3.除清洗用藥劑外,無須用大量酸、堿運送、存儲、再生設施;

4.下會因離子交換樹脂再生而停機,節省了再生用水及再生排水處理設施;

5.產水率高(可達95%);

6.占地面積小;

7.設備單元模塊化,可靈活的組合達到需要的產品水流量;

8.安裝簡單,運行維護成本低;

9. EDI設備初期投資大,維修也較困難,對細菌的抗污染能力較低,當有細菌在其內部繁殖時,將會大幅度降低膜堆的性能,所以一般要求停機超過3天,就必須注人5%的NaCl溶液進行保護,或者是不間斷運行,防止細菌生長。

EDI設備工作年限約五年,EDI系統正常工作時,需要以下四個條件:合適的進水水質(TEA, CO2,硬度,硅)、足夠的電流、合理的流量和操作壓力。如果其中一個條件欠缺,則系統無法制備高質量的純水。

EDI工藝參數

(一)水質要求

電除鹽系統的進水水質要求必須是一級反滲透的出水(電導率為4~20μS/cm)或與之相當的水質(電導率是1~lμS/cm)。

1.一般要求

2.系統中CO2問題

   CO2是一個關鍵因素。因為分子的CO2可以透過RO膜進人后續系統中的混床或者EDI中的陰離子交換樹脂,加重陰離子的交換負荷。因此在一些情況下,系統中通過加NaOH來增加,H值,把CO2轉化成碳酸鹽和重碳酸鹽,有效地在RO膜中去除。

3.兩級RO出水問題

   一般認為ROI→ROⅡ→EDI對EDI的出水質量并不一定比ROI -EDI的出水質量好。因為兩級RO出水的電導率在1-2μS/cm,進人到濃水、極水的導電特性不夠,導致模塊電阻上升,電流下降。模塊就不能將離子從主進水流(穿過膜)中遷移到濃水中,產品水的水質會受影響。

   如果RO出水的電導率小于2μS/cm, EDI濃水的進水電導率應設計在10~100μS/cm范圍內,使濃水出水電導率達到40~100μS/cm的理想值。濃水出水電導率可從濃水進出口濃度和回收率進行平衡計算,然后確定設計方案。為了優化帶有兩級RO-EDI的系統,

一般采用的措施有:

  (l)從第一級RO出水(電導率大于20μS/cm)供給EDI的濃水、極水供水或從第二級RO進水(電導率大于20μS/cm)供給EDI的濃水、極水。

   (2)在EDI濃水、極水中加鹽(優質NaCI,質量要求為:

氯化鈉(以固體中含量計算)>99.80%

鈣和鎂(以Ca計算)<0. 05%

銅<0. 5× 10-6

鐵<5. 0× 10-6

重金屬(以Pb計算)<2. 0 ×10-6

大約維持電導率在10~100μS/cm,以達到出口水電導率為40~l00μS/cm。

加鹽裝置包括計量泵、鹽液計量箱和低液位開關。加鹽泵應采用變頻計量泵,以便在系統運行時由PLC控制劑量。

為避免濃水中離子過度積累,需要排放少量濃水。排放掉的濃水由進水補充,控制濃水的電導率在150~600μScm之間(或按照EDI產品要求而定)。

4.進水的pH值

進水的pH值表示了進水中H+的含量,一般進水控制在5-9.5之間。通常情況下,pH值偏低是由于CO2的溶解引起的。由于是弱電離物質,COZ也是導致水質惡化的因素之一,所以在進EDI系統之前,一般可以安裝一個脫碳裝置,使得水中的CO2控制在5mg/L以下。水中pH值和CO2存在一定溶解關系,理論上當pH>10時,去除效率較佳。高pH值有助于去除弱電離子,但是前提是必須在進EDI系統前除去Ca2t+、Mg2+等離子。

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