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半導體材料生產用超純水設備

作者:北京水處理公司來源:超純水設備發布時間:2013-06-02

  半導體材料生產用超純水設備概述

  該設備主要是作為半導體的材料生產用水,通過EDI技術再加上反滲透技術,設備的出水電導率達到了18兆歐以上,可以制取高純度的水,所生產出的材料是半導體生產的重要原材料。

超純水設備

  超純水設備的制水工藝

  1、預處理系統→反滲透系統→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水點(≥18MΩ.CM)(傳統工藝)。

  2、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點(≥18MΩ.CM)(現今工藝)。

  3、預處理→一級反滲透→加藥機(PH調節)→中間水箱→第二級反滲透(正電荷反滲膜)→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點(≥17MΩ.CM)(現今工藝)。

  4、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點(≥15MΩ.CM)(現今工藝)。

  5、預處理系統→反滲透系統→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線殺菌器→精密過濾器→用水點 (≥15MΩ.CM)(傳統工藝)。

  萊特萊德作為專業的超純水設備廠家除了設計生產半導體材料生產用超純水設備還可以提供化工行業用超純水設備、電子行業超純水設備,滿足了不同行業的用水需求。

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