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硅材料硅產品清洗超純水設備

作者:北京水處理設備公司來源:超純水設備發布時間:2017-03-07

   硅材料硅產品清洗超純水設備,對水質的要求嚴格,因為微量污染也會導致器件失效。清洗的目的在于清除表面污染雜質,包括有機物和無機物,這些雜質會以不同的形式附著在硅體的表面,其中有機物包括光刻膠、有機溶劑殘留物、合成蠟和人接觸器件、工具、器皿帶來的油脂或纖維。無機污染包括重金屬金、銅、鐵、鉻等,嚴重影響少數載流子壽命和表面電導,堿金屬如鈉等,引起嚴重漏電,顆粒污染包括硅渣、塵埃、細菌、微生物、有機膠體纖維等,會導致各種缺陷。

超純水設備

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  超純水主要用于清洗硅片,另有少量用于藥液配制,硅片氧化的水汽源,部分設備的冷卻水,配制電鍍液等。超純水是一般水質不可以代替的,超純水設備利用先進的EDI技術和反滲透技術,主要去除水中的細菌,病毒等雜質,保證水質可以滿足客戶的用水標準。

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