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半導體行業產品清洗用超純水設備

作者:北京水處理設備公司來源:超純水設備發布時間:2017-10-19

   半導體行業產品清洗用超純水設備概述:

  在半導體行業產品清洗用超純水設備設計上,采用成熟、可靠、先進、自動化程度高的兩級RO+EDI+精混床除鹽水處理工藝,確保處理后的超純水出水水質電阻率達到18.2 MΩ.cm。關鍵設備及材料均采用國際主流先進可靠產品,采用PLC+觸摸屏控制,全套系統自動化程度高,系統穩定性高。大大節省人力成本和維護成本,水利用率高,運行可靠,經濟合理。

  半導體行業用超純水水質標準:

  我公司半導體行業用超純水出水水質完全符合美國ASTM純水水質標準、我國電子工業部電子級水質技術標準(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級標準)、我國電子工業部高純水水質試行標準、美國半導體工業用純水指標、日本集成電路水質標準、國內外大規模集成電路水質標準。

  半導體行業產品清洗用超純水設備對水質的要求:

  新興的光電材料生產、加工、清洗;LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏、高品質燈管顯像管、微電子工業、FPC/PCB線路板、電路板、大規模、超大規模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高,對水質的要求也越高,這也對超純水處理工藝及產品的簡易性、自動化程度、生產的連續性、可持續性等提出了更加嚴格的要求。

  半導體行業產品清洗用超純水設備應用場合:

  1、電解電容器生產鋁箔及工作件的清洗

  2、電子管生產、電子管陰極涂敷碳酸鹽配液

  3、顯像管和陰極射線管生產、配料用純水

  4、黑白顯像管熒光屏生產、玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水

  5、液晶顯示器的生產、屏面需用純水清洗和用純水配液

  6、晶體管生產中主要用于清洗硅片,另有少量用于藥液配制

  7、集成電路生產中高純水清洗硅片

  8、半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路

  9、LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏

  10、高品質顯像管、螢光粉生產

  11、半導體材料、晶元材料生產、加工、清洗

  12、超純材料和超純化學試劑、超純化工材料

  13、實驗室和中試車間

  14、汽車、家電表面拋光處理

  15、光電產品、其他高科技精微產品

  半導體行業產品清洗用超純水設備工藝流程圖:

 

  為滿足用戶需要,達到符合標準的水質,盡可能地減少各級的污染,延長半導體行業產品清洗用超純水設備的使用壽命、降低操作人員的維護工作量。在半導體行業產品清洗用超純水設備在工藝選材上采用推薦和客戶要求相統一的方法,使設備與其它同類產品相比較,具有更高的性價比和設備可靠性。

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